NH3-Cu-CHA催化剂上的选择性NOx催化还原（SCR）技术被认为是最先进的DeNOx工艺，好消可为商业化应用提供高效的NOx减排。
从VDD电压窗口的传输特性中提取通态电流和峰值跨导值，日人住标准关态电流为100nAμm−1。i，济南积金掺钇诱导相变接触示意图侧视图。
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j，好消采用y掺杂诱导相变接触的典型10nm弹道InSeFET和直接采用传统Ti/Au接触的典型10nmInSeFET的输出特性。日人住cd通路状态VDD=0.5V时弹道2DInSeFET的电流(ION)和峰跨导比较以及VDD=1V时LG在50nm以下的其他2DFET(VDD=VDS=VGS)8,23-26。
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